展出范围： 一、靶材及专用设备类 1、溅射靶材：金属溅射镀膜靶材、合金溅射镀膜靶材、陶瓷溅射镀膜靶材、硼化物陶瓷溅射靶材、碳化物陶瓷溅射靶材、氟化物陶瓷溅射靶材、氮化物陶瓷溅射靶材、氧化物陶瓷靶材、硒化物陶瓷溅射靶材、硅化物陶瓷溅射靶材、硫化物陶瓷溅射靶材、碲化物陶瓷溅射靶材、其他陶瓷靶材、磷化铟靶材、砷化铅靶材、砷化铟靶材等； 2、金属靶材：镍靶、铁镍靶、钛靶、锌靶、铬靶、钼靶、镁靶、铌靶、锡靶、铝靶、铟靶、铁靶、锆铝靶、钛铝靶、锆靶、铝硅靶、硅靶、铜靶、钽靶、锗靶、银靶、金靶、钆靶、镧靶、钇靶、铈靶、钨靶、镍铬靶、铪靶、钨靶等。 3、陶瓷靶材：ITO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、二氧化钛靶、二氧化锆靶、二氧化铪靶，二硼化钛靶、二硼化锆靶、三氧化钨靶、氧化二铝靶、五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶、溅射靶材等。 4、合金靶材：铁钴靶、铝硅靶、钛硅靶、铬硅靶、锌铝靶、钛锌靶材、钛铝靶、钛锆靶、钛硅靶、钛镍靶、镍铬靶、镍铝靶、镍钒靶、镍铁靶等。 5、镀膜设备：真空镀膜机、真空蒸镀设备、光学镀膜机、溅射镀膜机、眼镜镀膜机、光纤镀膜、薄膜沉积设备、磁控镀膜、蒸镀设备、离子束沉积设备等镀膜设备； 二、镀膜材料类 1、镀膜材料：金属膜料、氧化物、氟化物、硫化物、钛酸物、混合物等各种膜材、镀膜蒸发料；PVD涂层、TiN涂层、TiC涂层、TiCN涂层、ZrN涂层、CrN涂层、MoS2涂层、TiAlN涂层、TiAlCN涂层、TiN-AlN涂层、CNx涂层、DLC涂层、ta－C涂层等多元复合涂层； 2、氧化物：一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化钛TiO2,二氧化锆ZrO2,二氧化铪HfO2,一氧化钛TiO,五氧化三钛Ti3O5，五氧化二铌Nb2O5，五氧化二钽Ta2O5,氧化钇Y2O3，氧化锌ZnO等高纯氧化物镀膜材料。 3、氟化物：氟化钕NbF3,氟化钡BaF2，氟化铈CeF3，氟化镁MgF2，氟化镧LaF3，氟化钇YF3，氟化镱YbF3，氟化铒ErF3等高纯氟化物。 4、其它化合物：硫化锌ZnS，硒化锌ZnSe，氮化钛TiN，碳化硅SiC，钛酸镧LaTiO3，钛酸钡BaTiO3，钛酸锶SrTiO3，钛酸镨PrTiO3，硫化镉CdS等真空镀膜材料。 5、金属镀膜材料：高纯铝Al，高纯铜Cu，高纯钛Ti，高纯硅Si，高纯金Au，高纯银Ag，高纯铟In，高纯镁Mg，高纯锌Zn，高纯铂Pt，高纯锗Ge，高纯镍Ni,高纯钽TA，金锗合金AuGe，金镍合金AuNi，镍铬合金NiCr，钛铝合金TiAl，铜铟镓合金CuInGa，铜铟镓硒合金CuInGaSe，锌铝合金ZnAl，铝硅合金AlSi等金属镀膜材料。